用于采用電子轟擊處理物品的設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及用于通過輻射處理用品的裝置，尤其涉及通過電子轟擊處理用品的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]已知通過使容器受到電子轟擊來消毒容器。
[0003]這種電子轟擊在屏蔽室中進行，所述屏蔽室設(shè)法將X-射線限制在與操作者隔開的區(qū)域中。
[0004]為此，用于通過電子轟擊處理容器的裝置包括:其上安裝有容器傳送設(shè)備的結(jié)構(gòu)，所述設(shè)備的一部分被容納于屏蔽室中，在一個或多個輻射發(fā)射器附近。所述室具有形成傳送設(shè)備的通道的入口和出口。
[0005]為了將發(fā)射機所發(fā)射的X-射線的能量衰減并且阻止它們自屏蔽室逸出，已知將屏蔽的內(nèi)部隔墻排列于室中，其中所述屏蔽的內(nèi)部隔墻被排列稱為屏蔽室的入口和出口之間的擋板。術(shù)語“擋板”用來意指內(nèi)部隔墻被排列為阻止X-射線具有從發(fā)射機到入口或到出口的直接路徑。因此，在發(fā)射機的環(huán)境內(nèi)產(chǎn)生的X-射線在屏蔽室的壁以及屏蔽的內(nèi)部隔墻的壁上多次反射，反射次數(shù)足以使所述X-射線在到達屏蔽室的入口或出口之前丟失基本上其全部能量。
[0006]安裝內(nèi)部隔墻使利用中間級容器傳送設(shè)備使容器能穿過多個擋板成為必要。
[0007]盡管操作者被這種裝置很好地保護，但是擋板的存在是非常有制約性的。該裝置存在占用了大的樓面面積即“占地面積”，這尤其是因為存在其尺寸對裝置的占地面積具有直接影響的中間級傳送設(shè)備。
[0008]本發(fā)明的一個目的在于提供了保護處于用于通過輻射處理用品的裝置附近的操作者而同時限制裝置尺寸的裝置。
[0009]為此，本發(fā)明提供了用于通過輻射處理用品的裝置，所述裝置包括其上安裝有用品傳送設(shè)備的結(jié)構(gòu)，所述設(shè)備的一部分被容納于屏蔽室中、在至少一個輻射發(fā)射器附近。所述室包括限定擋板通道的至少一條隧道，所述傳送設(shè)備的一段延伸通過所述擋板通道，且所述擋板通道在基本豎直的平面中延伸。
[0010]因此，豎直排列擋板使得確保室是防輻射的，同時限制裝置的占地面積成為可能。應(yīng)當(dāng)觀察到，用品通過被傳送設(shè)備運送而進出所述室。當(dāng)應(yīng)用于容器時，這使得將處理站安裝于封裝裝置中同時使其能以相對高吞吐率(與從中批量移除容器的處理裝置相對，批量移除使得布置屏蔽更容易但在被安裝于封裝裝置中時限制生產(chǎn)吞吐量)進行操作更為容易Ο
[0011]優(yōu)選的是，擋板通道由橫向延伸、突出至隧道中的多個壁限定以限定在高度上相互偏移的連續(xù)開孔。
[0012]例如，這在兩個底部開孔之間產(chǎn)生了一個頂部開孔，或者反之亦然。這類實施例使得將傳送設(shè)備安裝于隧道中而同時限制隧道的長度更為容易。
[0013]本發(fā)明還提供了用于將物質(zhì)封裝于容器中的封裝裝置，所述封裝裝置包括通過在所述至少一個隧道中延伸的傳送設(shè)備的多個段連接至上游站和下游站的處理裝置。
[0014]上游站可以例如是用于清潔容器的站，且下游站可以例如是用于填充容器的站。
[0015]本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點在閱讀以下對本發(fā)明的特別的非限制性實施例的描述后顯而易見。
[0016]參照唯一附圖，該附圖是示出根據(jù)本發(fā)明的裝置的一部分的示意圖。
[0017]參照該附圖，該例中跟本發(fā)明的處理裝置被布置為通過使容器受到電子轟擊來消毒容器。
[0018]本發(fā)明的裝置位于生產(chǎn)線中，例如，在用于吹塑瓶容器的站的下游以及在用于填充所述容器的站的上游。
[0019]所述裝置包括結(jié)構(gòu)1，所述結(jié)構(gòu)1上安裝有用于傳送容器100的設(shè)備(給予該設(shè)備一整體標(biāo)記10)。
[0020]傳送設(shè)備1的一部分被容納于屏蔽室2中，位于室2內(nèi)部包含的福射發(fā)射器3附近。該例中的福射發(fā)射器3執(zhí)行電子轟擊。
[0021]所述室具有進出隧道40，所述進出隧道40具有跨隧道40延伸的屏蔽的內(nèi)部隔墻以便限定如整體標(biāo)記50所示的擋板通道，所述傳送設(shè)備10的一段延伸通過所述擋板通道。
[0022]更準(zhǔn)確地說，第一隔墻51在第二隔墻52和第三隔墻53之間，自隧道40的底面41向隧道40的頂面42延伸，第二隔墻52和第三隔墻53兩者都自頂面42向底面41延伸。隔墻51、52和53彼此基本平行。第一隔墻51具有頂邊緣55，頂邊緣55與頂面42合作以限定第一開孔61。第二隔墻52和第三隔墻53具有相應(yīng)的底邊緣56和57，底邊緣56和57與底面41合作以限定相應(yīng)的第二開孔62和第三開孔63。第一隔墻51的頂邊緣55在第二隔墻52和第三隔墻53的底邊緣56、57的上方延伸。隔墻51、52和53彼此間隔開，并且因此它們被布置成防止X-射線從輻射發(fā)射器3直接通到室2的外部。結(jié)果，隔墻51、52和53被布置成使通道50在基本豎直的平面(附圖中該圖的平面)中延伸。
[0023]在該例中，隧道具有在其距室2最遠的一端跨隧道40延伸的第四屏蔽隔墻54。第四隔墻54延伸自底面41，且其頂邊緣58在第二隔墻52的底邊緣56下方延伸。第四隔墻54加強了室2的輻射防護，并且與第二隔墻52合作以限定隧道40的入口開孔/出口開孔。
[0024]術(shù)語“屏蔽”用于意指壁或隔墻能防護電子和X-射線。因此，屏蔽的壁或隔墻具有覆蓋于不銹鋼薄層中的導(dǎo)線層。
[0025]在該例中，傳送設(shè)備10具有可旋轉(zhuǎn)地安裝于結(jié)構(gòu)1上的常規(guī)的傳送星(transportstar) 11、12、13和14，且它們連接至用于驅(qū)動它們旋轉(zhuǎn)的設(shè)備(未示出)。傳送星11、12、13和14彼此正切，且它們中的每一個都設(shè)有用于夾持容器的裝置，諸如用于在頸部夾持容器的夾具。
[0026]傳送星11位于第四隔墻54和第二隔墻52之間。它致力于將容器100引入隧道40或?qū)⑷萜?00排出隧道40。傳送星11與至少一個容器傳送設(shè)備(未示出)正切，所述至少一個容器傳送設(shè)備被布置成裝載和卸載傳送星11。
[0027]傳送星12安裝在第一隔墻51附近，并且設(shè)有使容器在第一隔墻51的頂邊緣55上方傾斜的裝置。傳送星具有在頂邊緣55上方且跨頂邊緣55在第二隔墻52和第三隔墻53之間延伸的平臺。容器夾持夾具安裝于傳送星12的平臺上以便在以豎直位置持有容器的位置和以水平位置持有容器的位置之間繞相應(yīng)的水平軸樞轉(zhuǎn)，從而使容器能夠在處于基本水平位置的同時被傳遞通過頂邊緣55，并且使容器在處于豎直位置時既與傳送星11交換、又與位于第三隔墻53附近的傳送星13交換。
[0028]傳送星13和14的旋轉(zhuǎn)軸在第三隔墻53的遠離第二隔墻52的一側(cè)上。傳送星13的平臺跨底邊緣57并且在底邊緣57下方延伸。傳送星13與輻射發(fā)射器3相鄰。
[0029]傳送星11、13和14的平臺處在相同水平。當(dāng)傳送星12的夾持夾具處于它們以豎直位置持有容器的位置時，傳送星12的夾持夾具與傳送星11、13和14的平臺也處于相同水平。
[0030]這些星本身是已知的，因此在此不詳細描述。
[0031]自然，本發(fā)明不限于所述實施例，而是覆蓋了落在由權(quán)利要求書所定義的本發(fā)明的范圍內(nèi)的任何變體。
[0032]特別是，傳送設(shè)備可以具有傳送星、線性運送機、或者能傳送容器的任何其他設(shè)備。
[0033]該裝置可具有某個其它數(shù)量的傳送星。
[0034]這些隔墻的排列可以不同于所示排列。更準(zhǔn)確地說，第一隔墻可以在第二隔墻和第三隔墻之間，自隧道40的頂面42向隧道40的底面41延伸，其中第二隔墻和第三隔墻兩者都自底面41向頂面42延伸。于是，第一位置會具有一底邊緣，所述底邊緣與底面41合作用于限定第一開孔。第二隔墻和第三隔墻于是會具有相應(yīng)的頂邊緣，所述相應(yīng)的頂邊緣與頂面42合作分別用于限定第二開孔和第三開孔。第一隔墻的底邊緣于是會比第二隔墻和第三隔墻的頂邊緣更低地延伸。隧道也會由以鋸齒形配置延伸的頂壁和底壁限定，以便限定豎直的隔板通道。然而，這一排列會比以上所述的排列制造起來更為復(fù)雜。
[0035]裝置也可以包括入口隧道和出口隧道，或者它可以具有既充當(dāng)裝置入口也充當(dāng)裝置出口的單個隧道。
[0036]裝置會具有由星14承載的發(fā)射器以及/或者靜止的一個或多個發(fā)射器，或者它可以僅具有一個或多個靜止發(fā)射器，或者它可以僅具有由星14承載的發(fā)射器。
[0037]星可具有與所述結(jié)構(gòu)不同的結(jié)構(gòu)，特別是關(guān)于它們?nèi)绾螉A持容器。
[0038]本發(fā)明可應(yīng)用于除容器以外的用品以及/或者應(yīng)用于其他類型的輻射。
【主權(quán)項】
1.用于通過輻射來處理用品的裝置，所述裝置包括其上安裝有用品傳送設(shè)備(10)的結(jié)構(gòu)(1)，所述用品傳送設(shè)備(10)的一部分容納于屏蔽室(2)中、位于至少一個輻射發(fā)射器(3)附近，所述裝置的特征在于所述室具有限定隔板通道(50)的至少一個隧道(40)，所述傳送設(shè)備的一段延伸通過所述隔板通道，且所述隔板通道在基本豎直的平面中延伸。2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述隔板通道由橫向延伸、突出到隧道中的多個壁限定，以便限定在高度上彼此偏移的連續(xù)開孔。3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，第一隔板(51)在第二隔板(52)和第三隔板(53)之間自所述隧道(40)的底面(41)朝向所述隧道的頂面(42)延伸，所述第二隔板和所述第三隔板自所述頂面朝向所述底面延伸，所述第一隔板具有頂邊緣(55)，所述頂邊緣(55)與所述頂面合作以限定第一開孔(61)，所述第二隔墻和所述第三隔墻具有底邊緣(56，57)，所述底邊緣(56，57)與所述底面合作以限定相應(yīng)的第二開孔￠2)和第三開孔(63)，所述第一隔板的頂邊緣高于所述第二隔板和所述第三隔板的底邊緣。4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述隧道(40)具有在其距所述室(2)最遠的一端相對于所述隧道(40)橫向延伸的屏蔽的第四隔板(54)，所述第四隔板(54)自所述底面(41)延伸且其頂邊緣(58)在所述第二隔板(52)的底邊緣(56)下方延伸。5.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述傳送設(shè)備具有安裝在所述第一隔板附近并且設(shè)有用于使所述用品在所述第一隔板的頂邊緣上方傾斜的裝置的旋轉(zhuǎn)星。6.用于將物質(zhì)封裝于容器中的封裝裝置，所述封裝裝置包括根據(jù)前述權(quán)利要求的任一項的處理裝置，所述處理裝置通過在所述至少一個隧道中延伸的所述傳送設(shè)備的分段連接至上游站以及下游站。
【專利摘要】本發(fā)明涉及用于采用輻射處理物品的設(shè)備，包括其上安裝有物品傳送設(shè)備(10)的框架，物品傳送設(shè)備(10)的一部分容納于有防御的腔室(2)中、位于至少一個輻射發(fā)射器(3)附近。腔室包括隧道(40)，所述隧道(40)包括限定鋸齒形通道(50)的內(nèi)部橫向隔墻(51，52，53，54)，所述傳送設(shè)備的一部分延伸至所述鋸齒形通道中。所述隔墻被排列以使鋸齒形通道沿著基本豎直的平面延伸。本申請還公開了用于將材料封裝于容器中的設(shè)備，其包括這種處理設(shè)備。
【IPC分類】A61L2/08
【公開號】CN105263530
【申請?zhí)枴緾N201480031810
【發(fā)明人】N·捷斯羅特
【申請人】西拉克集團公司
【公開日】2016年1月20日
【申請日】2014年5月30日
【公告號】EP3003405A1, US20150034839, WO2014195240A1